薄膜沉积设备及方法

摘要

一种薄膜沉积设备，其具有用以在靠立于基座上的复数个基板上形成薄膜的反应室。该设备包括：一气体供应装置，用以自外部供应复数种气体至该反应室内，该等气体包含反应气体；一气体分配装置，其用以分配及喷雾自该气体供应装置所供应的气体，因而符合工艺目的；一气体留置装置，其具有复数个反应槽(reaction cells)，用以分隔调节及留置自该气体分配装置所分配的个别气体；一旋转驱动装置，用以旋转该气体留置装置，使得留置在个别反应槽内的气体依序暴露至该基板；及一气体排放装置，用以将该气体留置装置所留置的气体泵出至该反应室的外部。

主权项

1、一种薄膜沉积设备，其具有用以在靠立于基座上的复数个基板上形成薄膜的反应室；该设备包括：一气体供应装置，用以自外部供应复数种气体至该反应室内，该气体包含反应气体；一气体分配装置，其用以分配及喷雾自该气体供应装置所供应的气体，因而符合工艺目的；一气体留置装置，其具有复数个反应槽，用以分隔调节及留置自该气体分配装置所分配的个别气体；一旋转驱动装置，用以旋转该气体留置装置，使得留置在个别反应槽内的气体依序暴露至该基板；及一气体排放装置，用以将该气体留置装置所留置的气体泵出至该反应室外部。