发明名称 一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法
摘要 本发明公开了一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法,其方法为:将经预处理后的锆工件置入带有加热装置的真空离子镀膜机,预抽真空至1×10<sup>-3</sup>Pa,加热工件至500℃~800℃,保温一定时间,通入氩气,调节真空度至1~9×10<sup>-1</sup>Pa,对工件加载负偏压800~2000V,开启装有铂溅射靶的溅射源;调节负偏压至100~500V,再沉积一定时间,关闭溅射源,直到锆工件温度低于100℃后取出。本发明通过控制镀膜工艺参数可制备0.1~10μm的铂扩渗层和0.1~50μm铂沉积层,制备的铂扩渗层与基体锆没有明显的界面,呈冶金结合。
申请公布号 CN101413103A 申请公布日期 2009.04.22
申请号 CN200810232476.2 申请日期 2008.11.28
申请人 西北有色金属研究院 发明人 王宝云;李争显;高广睿;杜继红;严鹏
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 西安创知专利事务所 代理人 李子安
主权项 1. 一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法,将锆工件表面经过机械抛光、除油清洗和脱水烘干的预处理,其特征在于:将经预处理后的锆工件置入带有辅助加热装置的真空离子镀膜机,预抽真空至1×10-3Pa,加热工件至500℃~800℃,保温10~40min,通入氩气,调节真空度至1×10-1Pa~9×10-1Pa,对工件加载负偏压800~2000V,开启装有铂溅射靶的溅射源5~40min;调节负偏压至100~500V,再沉积10~200min,锆工件表面形成具有0.1~10μm的铂扩渗层和0.1~50μm沉积层的铂薄膜。
地址 710016陕西省西安市未央区未央路96号