| 发明名称 | 用于无掩模光刻的动态补偿系统 | ||
| 摘要 | 一种用于在基板(3)上动态配准多重图案化层的方法包括：在基板上沉积第一层；在第一层上印制第一图案(20)；在第一图案上沉积第二层；以及在第二层上印制第二图案的同时动态检测第一图案以将第二图案与第一图案对准。 | ||
| 申请公布号 | CN101416113A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200780011721.0 | 申请日期 | 2007.03.16 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | A·S·赖弗斯;T·J·特雷威尔;R·H·卡夫尼;J·T·斯图普斯;J·M·科布 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王庆海;陈景峻 |
| 主权项 | 1. 一种用于在基板上动态配准多重图案化层的方法，包括：在第一层上形成第一图案；在所述第一图案上沉积第二层；和在所述第二层上形成第二图案的同时动态检测所述第一图案以便将所述第二图案对准到所述第一图案。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||