| 发明名称 | 用于薄膜电容器制作的溶胶-凝胶及掩模图案化，由此制作的薄膜电容器，以及含有薄膜电容器的系统 | ||
| 摘要 | 一种形成薄膜电容器的工艺，包括：在第一电极上对介电薄膜的溶胶-凝胶图案化，剥离去除不需要的介电薄膜，以及给介电薄膜配上第二电极。薄膜电容器沿着其特征尺寸定义的线呈现出基本上均匀的热变形态。还公开了包括该薄膜电容器的计算系统。 | ||
| 申请公布号 | CN101416258A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200780012269.X | 申请日期 | 2007.03.31 |
| 申请人 | 英特尔公司 | 发明人 | H·佘;Y·闵;C·A·帕拉杜斯 |
| 分类号 | H01G4/33(2006.01)I;H01G4/12(2006.01)I | 主分类号 | H01G4/33(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 柯广华;张志醒 |
| 主权项 | 1. 一种方法，包括：在第一电极上图案化形成掩模；在所述第一电极和所述掩模上形成绿色介电膜；剥离所述掩模以获得正图案介电膜；以及烧结所述绿色介电膜以获得已烧结的电介质。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||