| 发明名称 | 由液相形成原子层薄膜的方法 | ||
| 摘要 | 描述一种处理衬底的方法。将偶联剂和金属离子溶液施用于衬底。施用活化溶液来活化金属离子溶液的金属离子，从而由离子形成金属薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101416280A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200780011800.1 | 申请日期 | 2007.03.21 |
| 申请人 | 英特尔公司 | 发明人 | M·戈德斯坦 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01)I;H01L21/203(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 柯广华;张志醒 |
| 主权项 | 1. 一种处理衬底的方法，包括：将偶联剂和金属离子溶液施用于所述衬底；以及施用活化溶液以活化所述金属离子溶液的金属离子，从而由所述离子形成薄膜。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||