发明名称 |
包括流体腔室阵列的夹具系统 |
摘要 |
本发明涉及固定基底的夹紧系统,其中所述系统包括:夹具本体,其具有相反的第一侧和第二侧,所述第一侧包括成行列布置的流体腔室阵列,所述流体腔室各包括间隔开的第一凹陷和第二凹陷,形成间隔开的第一和第二支承区域,所述第一支承区域环绕所述第二支承区域和所述第一凹陷和第二凹陷,所述第二支承区域环绕所述第二凹陷,所述基底抵靠所述第一和第二支承区域搁置,所述第一凹陷和所述基底的与所述第一凹陷互相重叠的一部分形成第一腔室,而所述第二凹陷和所述基底的与所述第二凹陷互相重叠的一部分形成第二腔室;所述第一腔室的每一列和所述第二流体腔室的每一行与不同的流体源流体地连通,以控制所述流体腔室阵列中的流体流动。 |
申请公布号 |
CN101415535A |
申请公布日期 |
2009.04.22 |
申请号 |
CN200780012009.2 |
申请日期 |
2007.03.26 |
申请人 |
分子制模股份有限公司 |
发明人 |
A·切罗拉;B-J·乔伊;P·B·拉德;S·C·沙克尔顿 |
分类号 |
B29C59/00(2006.01)I |
主分类号 |
B29C59/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
浦易文 |
主权项 |
1. 一种固定基底的夹紧系统,所述系统包括:夹具本体,所述夹具本体具有相反的第一侧和第二侧,所述第一侧包括流体腔室,所述流体腔室包括间隔开的第一凹陷和第二凹陷,形成间隔开的第一支承区域和第二支承区域,所述第一支承区域环绕所述第二支承区域和所述第一凹陷和第二凹陷,所述第二支承区域环绕所述第二凹陷,所述基底抵靠所述第一支承区域和第二支承区域搁置,所述第一凹陷和所述基底的与所述第一凹陷互相重叠的一部分形成第一腔室,而所述第二凹陷和所述基底的与所述第二凹陷互相重叠的一部分形成第二腔室;所述第一腔室和所述第二腔室与不同的流体源流体连通,以控制所述流体腔室中的流体流动。 |
地址 |
美国得克萨斯州 |