高纯钽及如溅射靶的含高纯钽的制品

摘要

本发明描述了高纯钽和含有高纯钽的合金。钽金属优选具有至少99.995％的纯度，更优选具有至少99.999％的纯度。另外，所述钽金属及其合金，这种钽金属及其合金具有约50微米或更低的晶粒大小；或者具有这样的织构：任意5％厚度增量内的(100)强度低于约15random或(111)∶(100)强度比的对数大于约-4.0；或者具有这些性质的任意组合。本发明还描述了由钽金属制成的物品和元件，包括但不限于溅射靶、电容器外壳、电阻膜层、导线等。本发明还描述了一种制备高纯钽金属的方法，包括在反应容器中使含钽盐与至少一种可以将该盐还原为钽粉末和第二种盐的化合物反应的步骤。所述的反应容器或反应容器的内衬与搅拌器或搅拌器上的衬，均是由金属材料制成的，所述的金属材料具有与熔融钽相同或更高的蒸气压。该高纯钽优选具有精细和均匀的微观结构。

主权项

1. 一种纯度至少99.995％、平均晶粒大小75微米或更低的钽金属。