| 发明名称 | 全息图记录介质的间隙层用膜及全息图记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种作为全息图记录介质的间隙层具有优选的物理性质及光学特性的膜。即，本发明提供一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由熔融挤出聚碳酸酯树脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度为10～150μm；(2)厚度不匀为±2μm以下；(3)在140℃下进行热处理1小时后的热尺寸变化率为0.08％以下；(4)全光线透过率为89％以上；(5)面内迟延为1～15nm；(6)厚度方向的迟延为100nm以下；(7)中心线平均表面粗糙度为两表面均为1～5nm。 | ||
| 申请公布号 | CN101414120A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
| 申请号 | CN200810169424.5 | 申请日期 | 2008.10.16 |
| 申请人 | 帝人化成株式会社 | 发明人 | 常守秀幸 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03H1/04(2006.01)I;G11B7/24(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 高龙鑫;吴小瑛 |
| 主权项 | 1. 一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由熔融挤出聚碳酸酯树脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度为10～150μm；(2)厚度不匀为±2μm以下；(3)在140℃下进行热处理1小时后的热尺寸变化率为0.08％以下；(4)全光线透过率为89％以上；(5)面内迟延为1～15nm；(6)厚度方向的迟延为100nm以下；及(7)中心线平均表面粗糙度为两表面均为1～5nm的范围。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||