电子束曝光系统

摘要

本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

主权项

1. 一种具有多个小射束的电子光学装置，包括：用于发射电子束的电子源，准直所述电子束的照射系统，具有聚焦所述电子束之外的小射束的静电透镜的阵列的射束分离器；所述装置包括缩小装置，在第一间距d1处接收碰撞小射束，将所述聚焦后的小射束推进到至少一个交点，并且在小于所述聚焦后的小射束的间距d1的间距d2处将所述小射束投射到目标表面上。