发明名称 |
沉积场致发光器件薄层的掩模框组件及沉积薄层的方法 |
摘要 |
本发明披露了一种掩模框组件,其用于沉积有机场致发光器件的薄层。该掩模框组件包括以下几个部分:一主掩模,其形成有与大量单元体相对应的图案;一图标掩模(具有图标图案),其设置在主掩模上并相应于主掩模的一个或多个开口;以及一掩模框,其形成有相应于所述主掩模的开口,并被连接到所述主掩模和图标掩模。 |
申请公布号 |
CN100481577C |
申请公布日期 |
2009.04.22 |
申请号 |
CN200410087462.8 |
申请日期 |
2004.09.30 |
申请人 |
三星移动显示器株式会社 |
发明人 |
金鲜喜 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
温大鹏;黄力行 |
主权项 |
1、一种用于沉积有机场致发光器件的一个或多个薄层的掩模框组件,包括:一主掩模,其具有相应于大量单元体的图案,在该图案之间设置有一开口;一图标图案承载掩模,其具有相应于图标的图案;其中该图标图案承载掩模设置在主掩模上,并与形成在所述主掩模上的开口相对应;以及一掩模框,其形成有与主掩模相对应的开口,并被连接到所述主掩模和所述图标图案承载掩模。 |
地址 |
韩国京畿道水原市 |