等离子体处理室中的边缘环磨损的补偿的方法和装置

摘要

一种用于在等离子体处理系统中处理衬底的方法。在处理期间，每个衬底都位于卡盘上且由边缘环围绕。所述等离子体处理系统具有耦合环，所述耦合环被配置以提供所述卡盘和所述边缘环之间的电流通路。该方法包括处理第一衬底。该方法进一步包括其后调节沿着等离子体鞘层与所述卡盘之间的电容通路的电容值。该方法还包括在调节之后，处理第二衬底，其中执行调节而不需要更换边缘环。该耦合环沿着垂直于边缘环的表面的轴是可移动的，以增加在沿着所述电容通路的相邻表面之间的间隙，该相邻表面包括边缘环的表面和耦合环的表面。

主权项

1. 一种用于在等离子体处理系统的等离子体处理室中处理多个衬底的方法，在所述处理过程中，所述衬底中的每一个衬底都设置在卡盘上并由边缘环包围，所述等离子体处理系统具有耦合环，所述耦合环被配置以提供所述卡盘和所述边缘环之间的电流通路，所述方法包括：根据给定处理方案在所述等离子体处理室中处理所述多个衬底中的第一衬底；在此之后，调节沿着在所述等离子体处理室中的等离子体鞘层与所述卡盘之间穿过所述边缘环的电容通路的电容值；以及在所述调节之后，根据所述给定处理方案在所述离子体处理室中处理所述多个衬底中的第二衬底，其中，执行所述调节而不需要更换所述边缘环，并且其中，所述耦合环沿着垂直于所述边缘环的表面的轴是可移动的，以增大沿着所述电容通路的相邻表面之间的间隙，所述相邻表面包括所述边缘环的表面和所述耦合环的表面。