发明名称 |
Pixelated masks for high resolution photolithography |
摘要 |
Some embodiments of the present invention include apparatuses and methods relating to pixelated masks for high resolution photolithography.
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申请公布号 |
US7523435(B2) |
申请公布日期 |
2009.04.21 |
申请号 |
US20050292857 |
申请日期 |
2005.12.01 |
申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
BOLLEPALLI SRINIVAS B.;DAVIDS PAUL S.;SINGH VIVEK |
分类号 |
G06F17/50 |
主分类号 |
G06F17/50 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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