发明名称 | 在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备 | ||
摘要 | 一种使用第三气体将第一气体隔离于第二气体的系统和方法。第一室包含基于第一气体发光的元件。第二室使用发出的光进行处理并包含第二气体。气闸将第一室连接到第二室。气体源在气闸中提供第一和第二气体之间的第三气体,使得在气闸中第一气体隔离于第二气体。可从第一室中抽取第一和第三气体并将它们彼此分开,使得可以循环第一气体,用于再使用来形成发光。 | ||
申请公布号 | CN100476584C | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
申请号 | CN200310118337.4 | 申请日期 | 2003.11.21 |
申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 斯蒂芬·鲁 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
主权项 | 1.一种系统,包括:包含基于第一气体发光的元件的第一室;使用所述发出的光来进行处理并包含第二气体的第二室;将所述第一室连接到所述第二室的气闸;和在所述气闸中提供所述第一和所述第二气体之间的第三气体的气体源,使得在所述气闸中所述第一气体隔离于所述第二气体;将所述第一气体从所述第三气体分开的循环装置,使得所述第一气体被再使用以形成所述发出的光。 | ||
地址 | 荷兰费尔德霍芬 |