Plasma processing apparatus,申请号EP20010104803-传众专利搜索

发明名称	Plasma processing apparatus
摘要
申请公布号	EP1134774(B1)	申请公布日期	2009.04.08
申请号	EP20010104803	申请日期	2001.02.27
申请人	HITACHI, LTD.	发明人	KAZUMI, HIDEYUKI;SASAKI, ICHIRO;MAEDA, KENJI;TETSUKA, TSUTOMU;KAWAHARA, HIRONOBU
分类号	C23F4/00;H01J37/32;H05H1/46;B01J19/08;H01L21/302;H01L21/3065	主分类号	C23F4/00
代理机构		代理人
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