摘要 |
Procédé de chauffage d'une plaque (1) comprenant au moins une couche à chauffer (2) et une sous-couche (4), sous l'effet d'au moins une impulsion d'un flux lumineux, comprenant les étapes suivantes : choisir un flux lumineux (7), une couche à chauffer (2) tels que le coefficient d'absorption de ce flux par la couche à chauffer (2) est faible tant que la température de cette couche à chauffer est dans une plage basse de température (PBT) et que ce coefficient d'absorption augmente fortement quand la température de la couche à chauffer passe dans une plage haute de température (PHT) ; et choisir une sous-couche (4) telle que le coefficient d'absorption dudit flux lumineux à ladite longueur d'onde choisie est élevé dans ladite plage basse de température (PBT) et la température passe dans la plage haute de température (PHT) lorsque cette sous-couche est soumise audit flux lumineux ; et appliquer ledit flux lumineux (7) à ladite plaque (1).
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