摘要 |
Die vorliegende Erfindung stellt eine Mikrooptik bereit, welche kompakt und robust ist, z. B., indem sie wenigstens eine Asphäre aufweist und über einen gefalteten Strahlengang verfügt, und eine Vergrößerung $I1 von insbesondere > 800 bereitstellt. Ferner stellt die Erfindung ein System zur Positionierung eines Wafers in Bezug auf eine Projektionsoptik bereit, umfassend die Mikrooptik, einen in der Bildebene (B) der Mikrooptik anordenbaren Bildsensor (D) zur Messung einer Position eines Luftbildes der Projektionsoptik sowie eine Waferstage (WST) mit einem Aktuator und einer Steuerung (S) zur Positionierung des Wafers in Abhängigkeit von einem Ausgabesignal des Bildsensors (D).
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