发明名称 Mikrooptik zur Messung der Position eines Luftbildes
摘要 Die vorliegende Erfindung stellt eine Mikrooptik bereit, welche kompakt und robust ist, z. B., indem sie wenigstens eine Asphäre aufweist und über einen gefalteten Strahlengang verfügt, und eine Vergrößerung $I1 von insbesondere > 800 bereitstellt. Ferner stellt die Erfindung ein System zur Positionierung eines Wafers in Bezug auf eine Projektionsoptik bereit, umfassend die Mikrooptik, einen in der Bildebene (B) der Mikrooptik anordenbaren Bildsensor (D) zur Messung einer Position eines Luftbildes der Projektionsoptik sowie eine Waferstage (WST) mit einem Aktuator und einer Steuerung (S) zur Positionierung des Wafers in Abhängigkeit von einem Ausgabesignal des Bildsensors (D).
申请公布号 DE102007043896(A1) 申请公布日期 2009.04.02
申请号 DE200710043896 申请日期 2007.09.14
申请人 CARL ZEISS SMT AG 发明人 ROSTALSKI, HANS-JUERGEN;FELDMANN, HEIKO
分类号 G02B21/02;G01M11/02;G02B13/14;G03F7/20 主分类号 G02B21/02
代理机构 代理人
主权项
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