| 摘要 |
一种静电吸盘，包括一有角度之导管或一有角度之雷射切割通道，可经由该导管或通道供应一导热气体。该有角度之导管及/或该有角度之雷射切割通道向一轴线延伸，该轴线与用以将一基板保持在该吸盘之电场之轴线不同。故可降低发生电浆电弧及离子化背面气体之机会。可将一第一管塞塞入该导管中，其第一外周通道之一段落向一轴线延伸，而该轴线与该电场之轴线不同。也可将一第一管塞及一第二管塞置入一陶瓷外套中，该陶瓷外套延伸穿过该介电构件与该电极之至少一者。最后，该介电构件之表面可包括浮雕图形，由该介电构件之中心以辐射距离配置，以提升热传导效率及使气体分布均匀。 |
