| 摘要 |
本发明系于曝光工具中的光学元件的碳污染可藉由加入碳氢化合物收集器而最小化。实施例包含超紫外线(extreme ultraviolet, EUV)微影工具，该微影工具设有包含基板与高能量源(诸如，电子枪或独立EUV源)之至少一个碳氢化合物收集器，该高能量源系放置以集中具有足够能量的能量束于基板上，以破坏重碳氢化合物且形成碳。实施例亦包含曝光工具，该曝光工具备有包括能量源之碳氢化合物收集器，该能量源系放置以照射能量束于石英晶体厚度监视器(quartz crystal thickness monitor)、残余气体分析器(residual gas analyzer)及控制器上，以控制电子流且将该系统中碳氢化合物的量维持在预定的低程度。 |
