| 发明名称 | 采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法，包括如下步骤：步骤1，产品到来之后，测量前值；步骤2，在凹凸区域用小于50rpm的低转速和小于4psi的低压力进行研磨，进行终点检测，抓到特征点后停止研磨；步骤3，用正常的转速50-120rpm和正常的压力4-8psi继续研磨，根据研磨时间研磨至后值规格。该方法能提高研磨产品的平整度，减少研磨的时间，既能提高产量又能节约成本。 | ||
| 申请公布号 | CN100473498C | 申请公布日期 | 2009.04.01 |
| 申请号 | CN200610116939.X | 申请日期 | 2006.10.09 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 王海军;蔡晨;谢煊;程晓华 |
| 分类号 | B24B49/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | B24B49/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王 函 |
| 主权项 | 1、一种采用终点检测系统对同一种膜质进行研磨的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1，产品到来之后，测量前值；步骤2，在凹凸区域用小于50rpm的低转速和小于4psi的低压力进行研磨，进行终点检测，抓到特征点后停止研磨；步骤3，用正常的转速50-120rpm和正常的压力4-8psi继续研磨，根据研磨时间研磨至后值规格。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 | ||