| 摘要 |
本发明提供一种基板处理装置，其可长时间地将磷酸水溶液之蚀刻特性维持为固定。自添加剂投入机构30，向蓄积在浸渍处理槽10中之磷酸水溶液中逐次投入含有六氟矽酸水溶液(H#sB!2#eB!SiF#sB!6#eB!+H#sB!2#eB!O)之添加剂。又，自捕捉剂投入机构40，向磷酸水溶液中投入含有氢氟硼酸水溶液(HBF#sB!4#eB!+H#sB!2#eB!O)之捕捉剂。藉由逐次投入添加剂而适当补充促进氮化矽膜之蚀刻的F#sP!-#eP!，并且利用氢氟硼酸分解所得之氢氟酸，蚀刻由于上述逐次投入而增加之矽氧烷，由此抑制矽氧烷之浓度显着上升。藉此，氮化矽膜及氧化矽膜双方可维持初期之蚀刻速率。 |
