使用全相位和修剪掩膜的临界尺寸控制

摘要

为了在晶片上印刷子波长特征，可以使用包括全相位PSM(FPSM)和相应修剪掩模的掩模组。特别是在非临界区，在FPSM上的相位分配导致用修剪掩模限定一些特征。遗憾的是，这个有限特征限定引起这些非临界区中临界尺寸(CD)大变化。通过在诸如T形交叉点、肘形和其它类型交线的非临界区中限定多个特征边缘部分，既使掩模基本有偏差，也可以更好地控制不理想的临界尺寸(CD)。

主权项

1. 一种改进晶片材料层中特征的临界尺寸控制CD的方法，该方法包括：用全相移掩模FPSM限定所述特征的临界边缘部分，所述全相移掩模包括相邻移相器之间的第一组切口，以使用所述全相移掩模来解决限定所述特征的相位冲突，以及接近所述第一组切口的第二组切口，用于使用修剪掩模来限定接近所述第一组切口的边缘部分；和用所述修剪掩模限定对应于所述第二组切口的非临界边缘部分。