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发明名称 A method of reducing dust particles on a wafer when processing at elevated temperatures on an electrostatic chuck
摘要
申请公布号 EP0966026(B1) 申请公布日期 2009.04.01
申请号 EP19990304765 申请日期 1999.06.17
申请人 NGK INSULATORS, LTD. 发明人 OHNO, MASASHI;NAGAO, MIE;KOBAYASHI, HIROMICHI
分类号 H01L21/00;H01L21/68;H01L21/683 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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