发明名称 溅镀靶材之抛光制程
摘要 本件发明专利说明书揭示一种抛光废溅镀靶材之制程。该制程包括施加足够的热及轴向力至填满的溅镀靶材之步骤,以热压迫该填满的溅镀靶材,使粉末状金属与未溅镀金属熔合,制造出一抛光靶材。该制程可用于抛光贵金属靶材,例如钌靶材。
申请公布号 TW200914171 申请公布日期 2009.04.01
申请号 TW097127042 申请日期 2008.07.16
申请人 威廉斯先进材料公司 发明人 罗柏特 艾可;艾瑞许 冈古利;麦修T 威尔森
分类号 B22F7/06(2006.01);C23C14/34(2006.01) 主分类号 B22F7/06(2006.01)
代理机构 代理人 陈相儒
主权项
地址 美国