| 发明名称 | 优化可制造性的集成电路设计 | ||
| 摘要 | 分析库设计元件(102)的可制造性，将用于设计使用特定制造工艺制造的IC芯片。获得来自库的库设计元件。对于特定制造工艺确定库设计元件的可制造性属性(104)，其中，可制造性属性包括成品率相关属性。然后，对于库设计元件生成具有可制造性属性的库视图(106)，由电子设计自动化(EDA)工具使用。 | ||
| 申请公布号 | CN100474311C | 申请公布日期 | 2009.04.01 |
| 申请号 | CN03827080.3 | 申请日期 | 2003.09.16 |
| 申请人 | PDF全解公司 | 发明人 | 卡尔罗·瓜尔迪亚尼;尼可拉·达拉格恩;约翰·卡巴里安;恩里科·马拉维斯;拉蒂博尔·拉多杰西科;安杰伊·斯特罗伊瓦斯 |
| 分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1. 一种分析库设计元件的可制造性的方法，用于设计使用特定制造工艺制造的IC芯片，所述方法包括：从库获得库设计元件；对于所述特定制造工艺确定所述库设计元件的可制造性属性，其中，可制造性属性包括与成品率有关的属性；以及在设计IC芯片之前对于所述库设计元件生成具有可制造性属性的库视图，其中，在设计IC芯片过程中由电子设计自动化工具使用所述库视图。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||