散射场显微量测方法及装置

摘要

本发明系一种散射场显微量测方法及装置。该量测方法为将散射仪技术整合到亮场光学显微镜中，使显微镜可以量测的尺寸精度小于光学绕射极限。本发明使一经过适当扩束之均匀光场经一矽基液晶(LCOS)或数位微型反射镜元件(DMD)调变装置产生一检测光束，再使该检测光束成像于物镜之后焦平面然后投射至待测物表面所产生之散射光聚焦于一平面以形成一光讯号，以及以一阵列式侦测装置撷取该光讯号。经调变装置控制检测光束，可对待测物进行不同角度之照射，取得其表面不同位置之零阶或高阶绕射光强度值。