自适应调焦调平传感器系统的自适应工艺变化方法

摘要

本发明公开了一种自适应调焦调平传感器系统的自适应工艺变化方法，其特征在于光斑掩模还具有形成位于曝光狭缝之外的预测光斑的通光孔，利用所成的曝光狭缝外的预测光斑使本发明的自适应调焦调平系统实现对工艺的自适应，对其本身测量点测量数据的可信度进行自我判断，对光强或增益环节进行反馈控制。本发明的有益效果是大大提高了调焦调平系统的可用性及生产效率和成品率，减少了工艺实验的工作量，节约了使用成本，提高了调焦调平的测量性能和工件台的工作性能，并最终也提高了整个光刻机的工作性能，降低了其使用成本和使用难度。

主权项

1. 一种自适应调焦调平传感器系统自适应工艺变化的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)对所要加工的各种不同类型的测量对象进行测试，得到测量对象对调焦调平光探针的反射率和测量对象所引起调焦调平系统测量工艺相关性误差及误差修正因子；(2)将测量对象类型、测试所得的测量对象对调焦调平光探针的反射率及测量对象所引起的调焦调平测量工艺相关性误差修正因子做成数据字典存放在自适应调焦调平系统的数据处理模块中；(3)利用在扫描过程中预先到达测量对象位置Xi处的预测光斑测量在曝光过程中所使用的测量对象对光探针的反射率信息；(4)将预测光斑测量得到的测量对象对光探针的反射率信息反馈给调焦调平系统的数据处理模块，由数据处理模块识别测量对象的类型并得出相应的工艺相关性误差的修正因子；(5)对在预测光斑之后扫描曝光的测量光斑的测量所得数据自动加载相应的工艺相关性误差的修正因子进行修正。