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发明名称
在射频偏压阻抗匹配基座电极下侦测晶圆层电弧之设备
摘要
本发明提供一种电浆反应器中之晶圆级电弧侦测方法,该方法使用一耦接至槛值比较器之RF瞬时感测器及一用以回应该槛值比较器之系统控制器,来实现电弧之侦测。
申请公布号
TW200915375
申请公布日期
2009.04.01
申请号
TW097130890
申请日期
2008.08.13
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
皮皮顿约翰;福斯特约翰
分类号
H01J37/32(2006.01)
主分类号
H01J37/32(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
美国
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