发明名称 在射频偏压阻抗匹配基座电极下侦测晶圆层电弧之设备
摘要 本发明提供一种电浆反应器中之晶圆级电弧侦测方法,该方法使用一耦接至槛值比较器之RF瞬时感测器及一用以回应该槛值比较器之系统控制器,来实现电弧之侦测。
申请公布号 TW200915375 申请公布日期 2009.04.01
申请号 TW097130890 申请日期 2008.08.13
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 皮皮顿约翰;福斯特约翰
分类号 H01J37/32(2006.01) 主分类号 H01J37/32(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 美国