发明名称 DERIVADOS DE ETER SUSTITUIDO POR HEXAFLUORISOPROPANOL.
摘要 Compuestos de la fórmula (I) ** ver fórmula** en la que R1 es hidrógeno, alquilo inferior o halógeno; uno de R 2 y R 3 es hidrógeno, alquilo inferior o halógeno; y el otro de R 2 y R 3 es -O-CHR 4 -(CH 2) m-(CHR 5 ) n-R 6 ; R 4 es hidrógeno, alquilo inferior, arilo, aril-alquilo inferior, heteroarilo o heteroaril-alquilo inferior; R 5 es hidrógeno o arilo; R 6 es fenilo o aril-alquilo inferior, dicho fenilo o aril-alquilo inferior está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por amino, halógeno, alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, hidroxi-alquilo inferior, R 8 -O-C(O)-, R 9 R 10 NC(O)-, R 11 -O-C(O)-alquilo inferior, R 12 R 13 NC(O)-alquilo inferior, alcoxi inferior y aril-alcoxi inferior; o R 6 es un heteroarilo monocíclico de 5 ó 6 eslabones, que está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, halógeno y arilo, dicho arilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por amino, halógeno, alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, hidroxi-alquilo inferior, R 8 -O-C(O)-, R 9 R 10 NC(O)-, R 11 -O-C (O)-alquilo inferior, R 12 R 13 NC(O)-alquilo inferior, alcoxi inferior y aril-alcoxi inferior; o R 6 es heteroarilo bicíclico de 9 eslabones que está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, halógeno y arilo, dicho arilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por amino, halógeno, alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, hidroxi-alquilo inferior, R 8 -O-C(O)-, R 9 R 10 NC(O)-, R 11 -O-C(O)-alquilo inferior, R 12 R 13 NC(O)-alquilo inferior, alcoxi inferior y aril-alcoxi inferior; o R 6 es heteroaril-alquilo inferior que está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, halógeno y arilo, dicho arilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por amino, halógeno, alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, hidroxi-alquilo inferior, R 8 -O-C(O)-, R 9 R 10 NC(O)-, R 11 -O-C(O)-alquilo inferior, R 12 R 13 NC(O)-alquilo inferior, alcoxi inferior y aril-alcoxi inferior; o R 6 es -O-R 7 o alquilo inferior-OR 7 ; R 7 es arilo que está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por amino, halógeno, alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, hidroxi-alquilo inferior, R 8 -O-C(O)-, R 9 R 10 NC(O)-, R 11 -O-C(O)-alquilo inferior, R 12 R 13 NC(O)-alquilo inferior, alcoxi inferior y aril-alcoxi inferior; o R 7 es heteroarilo que está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por alquilo inferior, fluor-alquilo inferior, halógeno, amino, hidroxi-alquilo inferior, R 8 -O-C(O)-, R 9 R 10 NC(O)-, R 11 -O-C(O)-alquilo inferior, R 12 R 13 NC(O)-alquilo inferior, alcoxi inferior, aril-alcoxi inferior y arilo, dicho arilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos entre el grupo formado por alquilo inferior y halógeno; R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 y R 13 con independencia entre sí son hidrógeno o alquilo inferior; m es un número de 0 a 3; n es el número 0 ó 1; y las sales y ésteres farmacéuticamente aceptables de los mismos, con lo que el término "alquilo inferior" denota un radical alquilo con uno a siete átomos de carbono.
申请公布号 ES2315912(T3) 申请公布日期 2009.04.01
申请号 ES20050786065T 申请日期 2005.09.22
申请人 F. HOFFMANN-LA ROCHE AG 发明人 DEHMLOW, HENRIETTA;KUHN, BERND;PANDAY, NARENDRA;RATNI, HASANE;WRIGHT, MATTHEW, BLAKE
分类号 C07C69/92;A61K31/085;A61K31/192;A61K31/216;A61K31/235;A61K31/421;A61K31/423;A61K31/428;C07C43/23;C07C59/68;C07C65/24;C07C69/734;C07D261/20;C07D263/32;C07D275/04 主分类号 C07C69/92
代理机构 代理人
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