发明名称 电触点材料及其制造方法
摘要 本发明提供一种电触点材料,所述电触点材料包括导电性基体、设置在导电性基体的第一层、以及设置在所述第一层的表面的第二层,所述第一层由贵金属或以贵金属为主要成分的合金形成,其算术平均粗糙度Ra=(A)μm,所述第二层由贵金属或以贵金属为主要成分的合金形成,其膜厚为0.001×(A)μm~(A)μm,形成所述第二层的贵金属或形成所述第二层的合金的主要成分的贵金属是不同于形成所述第一层的贵金属或形成所述第一层的合金的主要成分的贵金属的元素。
申请公布号 CN101401178A 申请公布日期 2009.04.01
申请号 CN200780008629.9 申请日期 2007.03.15
申请人 古河电气工业株式会社 发明人 小林良聪
分类号 H01H1/06(2006.01)I;C22C5/04(2006.01)I;C23C30/00(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I;H01H1/04(2006.01)I 主分类号 H01H1/06(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张平元
主权项 1. 一种电触点材料,所述电触点材料包括导电性基体、设置在导电性基体的第一层、以及设置在所述第一层的表面的第二层,所述第一层由贵金属或以贵金属为主要成分的合金形成,其算术平均粗糙度Ra=(A)μm,所述第二层由贵金属或以贵金属为主要成分的合金形成,其膜厚为0.001×(A)μm~(A)μm,其中,形成所述第二层的贵金属或形成所述第二层的合金中作为主要成分的贵金属是不同于形成所述第一层的贵金属或形成所述第一层的合金中作为主要成分的贵金属的元素。
地址 日本东京都