发明名称 |
用于成像系统的曝光对中装置 |
摘要 |
一种辐射成像系统,包含:角度取向可调的辐射源,以及提供校准信号并且耦合到辐射源的发射器。一种二维辐射成像探测装置包含:根据辐射源发射的辐射记录成像的接收器,在相对接收器的固定位置上耦合的第一传感器,其探测发射器发出的校准信号并且提供第一响应信号,以及在相对接收器的固定位置上耦合的第二传感器,其探测发射器发出的校准信号并且提供第二响应信号。一个控制逻辑处理器与第一和第二传感器通信以便接收第一和第二响应信号,而且还与至少一个指示所述成像探测装置相对于辐射源的校准的指示器通信。 |
申请公布号 |
CN101396275A |
申请公布日期 |
2009.04.01 |
申请号 |
CN200810166408.0 |
申请日期 |
2008.09.26 |
申请人 |
卡尔斯特里姆保健公司 |
发明人 |
X·王;D·H·富斯 |
分类号 |
A61B6/08(2006.01)I;G03B42/02(2006.01)I |
主分类号 |
A61B6/08(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
李 湘;李家麟 |
主权项 |
1. 一种辐射成像系统,包括:具有可调节角度取向的辐射源;提供校准信号并与辐射源耦合的发射器;辐射成像探测装置,包括根据辐射源发射的辐射来记录图像的接收器;在相对接收器的固定位置上耦合的第一传感器,其探测来自发射器的校准信号并且提供第一响应信号;在相对接收器的固定位置上耦合的第二传感器,其探测来自发射器的校准信号并且提供第二响应信号;以及与第一和第二传感器通信的控制逻辑处理器,用以接收第一和第二响应信号,并且还与至少一个用于指示成像探测装置相对于辐射源的校准的指示器通信。 |
地址 |
美国纽约州 |