发明名称 |
具有保持环和夹持环的研磨头 |
摘要 |
本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该底座组件相对于该罩可垂直移动。该保持环连接至该底座组件并相对于该底座组件可垂直移动,且具有构造为接触研磨垫的下表面和构造为外周围绕衬底的边缘以保持衬底的内表面。该夹持环连接至该底座组件并相对于该底座组件垂直固定,外周围绕该保持环以防止该保持环的横向移动,并且具有构造为接触研磨垫的底表面。 |
申请公布号 |
CN101396805A |
申请公布日期 |
2009.04.01 |
申请号 |
CN200710165592.2 |
申请日期 |
2007.11.22 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;吴正勋 |
分类号 |
B24B37/04(2006.01)I;B24B29/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐金国 |
主权项 |
1. 一种用于化学机械抛光具有前表面、背表面和边缘的衬底的研磨头,包括:罩,具有构造为连接至驱动轴的上端;底座组件,连接至所述罩并相对于所述罩可垂直移动;环形保持环,连接至所述底座组件并放置在该底座组件的下方,该环形保持环具有构造为接触垫的下表面和构造为外周围绕衬底的边缘以保持该衬底的内表面,该环形保持环相对于所述底座组件可垂直移动;夹持环,连接至所述底座组件并设置在该底座组件下方,该夹持环外周围绕所述保持环以防止该保持环的横向移动,该夹持环具有构造为接触研磨垫的底表面,该夹持环相对于所述底座组件垂直固定;以及柔性膜,连接至所述底座组件并在该底座组件下方延伸以限定二者之间的可加压腔,该柔性膜具有下表面以提供衬底安装表面。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |