| 发明名称 | 用于加强冷却并降低挠曲和变形的靶设计及相关方法 | ||
| 摘要 | 本文描述了溅射靶，其含有：a)包含靶材料的靶表面元件；b)具有耦合表面和支撑表面的中心支撑元件，其中耦合表面耦合到靶表面元件上；c)至少一个表面面积特征耦合到或位于中心支撑元件的支撑表面上，其中该表面面积特征增加了中心支撑元件的有效表面面积。另外的溅射靶包含：a)集成的靶表面元件和中心支撑元件，其中该表面元件和中心支撑元件包含相同的靶材料或材料梯度；b)至少一个表面面积特征位于或集成到中心支撑元件，其中该表面面积特征增加了中心支撑元件的有效表面面积。还描述了形成溅射靶的方法，包含：a)提供包含靶材料的靶表面元件；b)提供包含支撑材料并具有耦合表面和支撑表面的中心支撑元件；c)提供至少一个耦合到或位于中心支撑板的支撑表面上的表面面积特征，其中该表面面积特征增加了中心支撑板的有效表面面积，或者提供至少一个耦合到或位于中心支撑元件的耦合表面上的表面面积特征，其中该表面面积特征增加了中心支撑元件的有效表面面积；和d)将表面靶材料耦合到中心支撑材料的耦合表面上。 | ||
| 申请公布号 | CN100473756C | 申请公布日期 | 2009.04.01 |
| 申请号 | CN200380107578.7 | 申请日期 | 2003.10.24 |
| 申请人 | 霍尼韦尔国际公司 | 发明人 | S·斯特罗特尔斯;W·霍尔特;F·麦克内尔 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;B22F3/15(2006.01)I;B23K20/14(2006.01)I;B23K20/16(2006.01)I;B29C67/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;庞立志 |
| 主权项 | 1. 一种溅射靶，包含：包含靶材料的靶表面元件；具有耦合表面和支撑表面的中心支撑元件，其中耦合表面耦合到靶表面元件上，和至少一个表面面积特征耦合到或位于中心支撑元件的支撑表面，其中该表面面积特征增加了中心支撑元件的有效表面面积。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||