TUBULAR SPUTTERING TARGET HAVING A GROOVED OUTER SURFACE OF THE SUPPORT TUBE

摘要

Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget mit einem Trägerrohr und einem an dessen äußerer Mantelfläche angeordneten Sputtermaterial und besteht darin, dass an der äußeren Mantelfläche des Trägerrohres ring- oder spiralförmig um die Längsachse des Trägerrohres umlaufende Vertiefungen angeordnet sind, in die das Sputtermaterial eingreift und dass die Vertiefungen im Bereich des Sputtermaterials über die Länge des Trägerrohres verteilt sind.