| 发明名称 | 反应室内残余气体的处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种反应室内残余气体的处理方法，涉及半导体化学气相沉积制程。所述反应室连接有输送残余气体的输送管道，输送管道上设有节流阀以及控制节流阀开启速度的步进电机，本发明的处理方法是通过设定步进电机的速率控制节流阀逐步打开，反应室内残余气体逐步被抽走。相较现有技术，本发明的处理方法缓慢抽走残余气体的方法，产生的气体抽力较小，避免晶圆偏移正确位置，消除或至少减少了沉积薄膜的厚度漂移。 | ||
| 申请公布号 | CN101392365A | 申请公布日期 | 2009.03.25 |
| 申请号 | CN200710046257.0 | 申请日期 | 2007.09.21 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 赵雪峰;郑树茂 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人 | 屈 蘅;李时云 |
| 主权项 | 1. 一种反应室内残余气体的处理方法，所述反应室连接有输送残余气体的输送管道，输送管道上设有节流阀以及控制节流阀开启速度的步进电机，其特征在于，该处理方法通过设定步进电机的速率控制节流阀逐步打开，反应室内残余气体逐步被抽走。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||