| 发明名称 | 制备光学波导的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于制备光学波导的方法，其包括：在底包层上布置至少一个用于形成光程偏转面的元件；在底包层上形成感光树脂层，从而至少部分地覆盖用于形成光程偏转面的元件；使感光树脂层曝光，然后显影，由此形成至少一层芯层；以及在底包层上形成外包层，从而覆盖所述至少一层芯层。 | ||
| 申请公布号 | CN100472257C | 申请公布日期 | 2009.03.25 |
| 申请号 | CN200610058999.0 | 申请日期 | 2006.03.09 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 内藤龙介;薄井英之;望月周 |
| 分类号 | G02B6/13(2006.01)I;G02B6/12(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/13(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1. 制备光学波导的方法，其包括：在底包层上布置至少一个用于形成光程偏转面的元件；在底包层上形成感光树脂层，从而至少部分地覆盖所述用于形成光程偏转面的元件；使感光树脂层曝光，然后显影，由此形成至少一层芯层；以及在底包层上形成外包层，从而覆盖所述至少一层芯层，该方法进一步包括在形成感光树脂层之后和形成芯层之前除去用于形成光程偏转面的元件。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||