发明名称 |
掩膜板及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种掩膜板,包括透明衬底和遮光图形,所述遮光图形由复数个遮光线条组成,所述遮光线条具有顶面和底面,所述底面为遮光线条与所述透明衬底的接触面,所述遮光线条横截面的顶面的宽度大于底面的宽度。本发明掩膜板和掩膜板的制造方法能够进一步提升通过掩膜板在晶片表面形成图像的清晰度和分辨率。 |
申请公布号 |
CN101393387A |
申请公布日期 |
2009.03.25 |
申请号 |
CN200710046209.1 |
申请日期 |
2007.09.17 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
吴汉明;张海洋 |
分类号 |
G03F1/14(2006.01)I;G03F1/08(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
1、一种掩膜板,包括透明衬底和遮光图形,所述遮光图形由复数个遮光线条组成,所述遮光线条具有顶面和底面,所述底面为遮光线条与所述透明衬底的接触面,其特征在于:所述遮光线条的顶面的面积大于底面的面积。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江路18号 |