发明名称 激光发射装置的位置调整方法
摘要 本发明提供一种激光发射装置的位置调整方法。该方法简单地使激光位置对准,能以更高的精度且在更短的时间调整激光的焦点等。该方法执行以下工序:将自周缘部朝着中心而形成有规定宽度的狭缝(500)的调整用基板(Wadj)放置在载置台上,以便来自激光发射装置(100)的激光通过狭缝;自调整用基板的背面侧通过狭缝朝着配置在调整用基板表面侧的光能测量装置(300)的受光面照射激光;一边使激光发射装置沿着光轴方向移动,一边由光能测量装置测量照射到该受光面的激光的能量的变化,基于该受光面能量的变化将激光发射装置的光轴方向的位置调整到期望位置。
申请公布号 CN101394965A 申请公布日期 2009.03.25
申请号 CN200780007624.4 申请日期 2007.08.27
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 新藤健弘;广木勤
分类号 B23K26/00(2006.01)I;B23K26/04(2006.01)I;B23K26/073(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01S3/00(2006.01)I 主分类号 B23K26/00(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人 刘新宇;张会华
主权项 1. 一种激光发射装置的位置调整方法,该方法调整激光发射装置的位置,该激光发射装置将激光照射到载置于载置台上的被处理基板的背面,其特征在于,上述激光发射装置沿着射出的激光的光轴方向移动自如;该方法包括以下工序:将自周缘部朝着中心而形成有规定宽度的狭缝的调整用基板放置在上述载置台上,以便来自上述激光发射装置的激光通过上述狭缝的工序;自上述调整用基板的背面侧通过上述狭缝朝着配置在上述调整用基板表面侧的光能测量装置的受光面照射上述激光的工序;一边使上述激光发射装置沿着上述光轴方向移动,一边由上述光能测量装置测量照射到该受光面的上述激光的能量变化,基于该受光面能量的变化,将上述激光发射装置的上述光轴方向的位置调整到期望位置的工序。
地址 日本东京都