首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 SYSTEM AND PROCESS FOR HIGH VOLUME DEPOSITION OF GALLIUM NITRIDE
摘要
申请公布号 EP2038456(A2) 申请公布日期 2009.03.25
申请号 EP20070812070 申请日期 2007.06.08
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 ARENA, CHANTAL;WERKHOVEN, CHRISTIAAN;STEIDL, THOMAS, ANDREW;BIRTCHER, CHARLES, MICHAEL;CLARK, ROBERT, DANIEL
分类号 C30B29/40;C30B25/02;C30B25/16 主分类号 C30B29/40
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com