发明名称 薄膜形成材料、薄膜,以及薄膜之制造方法
摘要 本发明系提供一种含N-取代苯并咪唑环的有桥脂环式化合物,其系以下述式(1)所示者;#P 097119829P01.bmp(式中,Z#sP!3#eP!表示有桥脂环骨架,Y#sP!11#eP!表示单键或2价之有机基,Y#sP!2#eP!表示单键或2至3价之有机基,X#sP!3#eP!表示反应性官能基,R#sP!a#eP!表示氢原子或烃基;A#sP!3#eP!系以下述式(a)或(b)#P 097119829P09.bmp(式中,R#sP!10#eP!表示1价之有机基)所示之基。n4表示2至7之整数,m3表示0至5之整数,k2表示0至2之整数;n4+m3=2至7;分子内复数的Y#sP!11#eP!、Y#sP!2#eP!、X#sP!3#eP!、A#sP!3#eP!、R#sP!10#eP!及复数存在时的R#sP!a#eP!系分别可为同一亦可为相异)。
申请公布号 TW200911758 申请公布日期 2009.03.16
申请号 TW097119829 申请日期 2008.05.29
申请人 泰舍尔化学工业股份有限公司 发明人 木克典;板谷亮;宝来晃;冈本和树;鸟枝真由美
分类号 C07D235/18(2006.01);C08G73/06(2006.01);C08J5/18(2006.01);H01B3/18(2006.01) 主分类号 C07D235/18(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本