发明名称 光学系统、曝光装置及装置制造方法
摘要 于物面之附近,至少含有1个第1折射光学构件,而且,于像面之附近,至少含有1个第2折射光学构件,相对于物面之像面的成像倍率为β时,∣β∣=1之光学系统,具有调整手段,前述调整手段使第1及第2折射光学构件之至少任一保持可在垂直于光轴方向之面内移动,来实施光学系统之像散差及失真之调整。调整手段,藉由使第I及第2折射光学构件同时于失真之变化为异符号之方向移动,而且,以失真之量之绝对值为大致相同之方式进行移动,可以在失真没有变化下调整像散差。此外,调整手段,藉由使第1及第2折射光学构件同时于像散差之变化为异符号之方向移动,而且,以像散差之量之绝对值为大致相同之方式进行移动,可以在像散差没有变化下调整失真。
申请公布号 TW200912562 申请公布日期 2009.03.16
申请号 TW097120267 申请日期 2008.05.30
申请人 佳能股份有限公司 发明人 渡边周
分类号 G03F7/207(2006.01) 主分类号 G03F7/207(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本