发明名称 |
微影装置及器件制造方法 |
摘要 |
本发明揭示一种微影系统,其包括:一源,该源经组态以产生一辐射,该源包括一阴极及一阳极,该阴极及该阳极经组态成以一位于一放电空间中之燃料来形成一放电以便产生一电浆,该放电空间在使用中包括一经组态以调整由该电浆所进行之辐射发射以便控制一由该电浆所界定之容积的物质;一图案支撑件,该图案支撑件经组态以固持一图案化器件,该图案化器件经组态以图案化该辐射以形成一经图案化辐射光束;一基板支撑件,该基板支撑件经组态以支撑一基板;及一投影系统,该投影系统经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板上。 |
申请公布号 |
TW200912999 |
申请公布日期 |
2009.03.16 |
申请号 |
TW097129921 |
申请日期 |
2008.08.06 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
法拉帝莫 维塔拉维屈 依法诺;凡丁 叶弗真叶米希 白尼;康士坦汀 尼可拉威屈 卡士李;法狄米尔 米哈罗维兹 可瑞森 |
分类号 |
H01J61/62(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
H01J61/62(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |