研磨用组合物

摘要

本发明之研磨用组合物，系适于供研磨金属膜、即所谓抛光研磨之研磨用组合物，作为其磨粒，含有由光散射法所求得之平均粒径在20 nm以上且未达80 nm的胶态二氧化矽、及作为氧化剂之选自碘酸及其盐中的至少一种，其余为水。藉由包含此等成分，除可实现非选择性之外，还可充分抑制凹状扭曲研磨及侵蚀。