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发明名称
基板洗净方法及基板洗净装置
摘要
本发明提供一种基板洗净方法,系在不损伤基板上的微细图案下达效率高的基板洗净。本发明的基板洗净方法,系采用包括有:以单片或复数片基板(6)为1批次,并将1批次基板(6)浸渍于湿式蚀刻液中的步骤;施行超音波洗净的步骤;以及施行乾燥的步骤;如此的批次式浸渍处理方式之基板(6)洗净方法;施行超音波洗净的步骤中,使用大气压下的溶存气体饱和度为60%~100%的洗净水,超音波频率达500kHz以上,超音波输出为0.02W/cm#sP!2#eP!~0.5W/cm#sP!2#eP!。
申请公布号
TW200913047
申请公布日期
2009.03.16
申请号
TW097126254
申请日期
2008.07.11
申请人
瑞萨科技股份有限公司;栗田工业股份有限公司
发明人
广田佑作;菅野至;森田博志;井田纯一
分类号
H01L21/306(2006.01);H01L21/304(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣
主权项
地址
日本
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