发明名称 ESPEJOS DE SILICIO DE SUSTRATO CON BISAGRAS INFERIORES.
摘要 Método de realización de un aparato MEMS, que comprende un componente de dispositivo y un componente de soporte, que comprende las etapas de: a) proporcionar un componente (400) de dispositivo que comprende silicio (415) monocristalino; b) crear al menos una bisagra (421, 422) en dicho componente (400) de dispositivo; c) construir un componente (450) de soporte que tiene una cavidad (440); d) adherir dicho componente (400) de dispositivo a dicho componente (450) de soporte, de modo que dicha al menos una bisagra (421, 422) esté dispuesta dentro de dicha cavidad (440); y e) formar en dicho componente (400) de dispositivo un elemento (410) de material base que tiene una superficie (412) de dispositivo y una superficie (411) inferior, por lo que dicha al menos una bisagra (421, 422) está acoplada a dicho elemento (410) de material base y está dispuesta por debajo de dicha superficie (411) inferior, suspendiendo de ese modo dicho elemento (410) de material base de dicho soporte (450).
申请公布号 ES2314239(T3) 申请公布日期 2009.03.16
申请号 ES20030756196T 申请日期 2003.05.21
申请人 CAPELLA PHOTONICS, INC. 发明人 VAN DRIEENHUIZEN, BERT, P.;WILDE, JEFFREY, P.;KUAN, NELSON
分类号 G02B26/08;B81B3/00;B81C3/00 主分类号 G02B26/08
代理机构 代理人
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