发明名称 金属矽氮化物膜的电浆增强循环性沉积方法
摘要 本发明涉及电浆增强循环沉积金属矽氮化物膜的方法,具体涉及在电浆环境中按照循环膜沉积使用金属醯胺化物、矽前驱物和氮源气体作为前驱物形成金属矽氮化物膜的方法。在基材上形成金属矽氮化物膜的沉积方法包含以下步骤:脉冲加入金属醯胺化物前驱物;吹扫出未反应的金属醯胺化物;将氮源气体引入在电浆环境下的反应室;吹扫出未反应的氮源气体;脉冲加入矽前驱物;吹扫出未反应的矽前驱物;将氮源气体引入到在电浆环境下的反应室中;和吹扫出未反应的氮源气体。
申请公布号 TW200912034 申请公布日期 2009.03.16
申请号 TW097122608 申请日期 2008.06.17
申请人 气体产品及化学品股份公司 发明人 金旼俓;金武性;杨相铉;雷新建
分类号 C23C16/455(2006.01);C23C16/34(2006.01);H01L21/285(2006.01) 主分类号 C23C16/455(2006.01)
代理机构 代理人 陈展俊;林圣富
主权项
地址 美国