氮化矽沟填层及其形成方法

摘要

一种形成氮化矽沟填层的方法，此方法是先进行一前多阶段形成制程，以在一基底上形成一堆叠膜层，构成一密集膜。然后，再进行一后单阶段沈积制程，以在堆叠膜层上形成一顶层，构成一疏松膜，其中顶层之厚度占总体氮化矽沟填层厚度之10％以上。