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发明名称 Zusammensetzung zur Entfernung von Photoresist
摘要
申请公布号 DE60041430(D1) 申请公布日期 2009.03.12
申请号 DE20006041430 申请日期 2000.09.11
申请人 MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO. INC. 发明人 IKEMOTO, KAZUTO;ABE, KOJIRO;AOYAMA, TETSUO
分类号 G03F7/42;H01L21/308;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/26;C11D7/32;C11D11/00;G03F7/32;G03F7/40;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/3213 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
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