发明名称 キャパシタ式接触制御インダクション構造
摘要 <p>【課題】キャパシタ式接触制御インダクション構造を提供する。【解決手段】第一基板と第二基板を重ねて構成し、粘着接合層3により2枚の基板を粘着接合し1枚の板体とし、第一基板と第二基板は光透過率の高い絶縁性薄板で、粘着接合層3は絶縁性の透明粘着材料で、第一基板の表面上には、キャパシタインダクション層、ジャンパー導電層14、隔絶層13を備え、キャパシタインダクション層は、格子状に交差し設置する複数のX軸トレースと複数のY軸トレースを備え、しかも各X軸トレース上の各インダクションスポットは相互に電気的に連接し排列し、各Y軸トレース上の各インダクションスポット121bは相互に絶縁し排列し、ジャンパー導電層14は、Y軸トレース方向に沿って設置する複数の導電線を備え、各導電線の両端縁のエレクトリカルコンタクト141は、Y軸トレース上の隣接する2個のインダクションスポット121bにそれぞれ電気的に接続する。【選択図】図1</p>
申请公布号 JP3149113(U) 申请公布日期 2009.03.12
申请号 JP20080009101U 申请日期 2008.12.25
申请人 洋華光電股▲ふん▼有限公司 发明人 林 徳錚
分类号 G06F3/041;G06F3/044 主分类号 G06F3/041
代理机构 代理人
主权项
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