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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verringerung des Gasverbrauchs von Prozessgasen bei der chemischen Gasphasenabscheidung von siliziumhaltigen Schichten, bei der als Reaktionsprodukt neben der abzuscheidenden Schicht hauptsächlich Wasserstoff entsteht, wobei Wasserstoff selektiv aus dem System zur chemischen Gasphasenabscheidung entfernt wird und die Prozessgase (Reaktanten), die noch nicht reagiert haben, im System verbleiben.
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