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经营范围
发明名称
METHOD OF FORMING METAL INTERCONNECTION LINE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100888199(B1)
申请公布日期
2009.03.12
申请号
KR20020042258
申请日期
2002.07.19
申请人
发明人
分类号
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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